Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, antifrottement). Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel.
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